イオン注入とは、イオンと呼ばれる電荷を帯びた原子や分子を正確に導入することにより、半導体ウェハーの電気的特性を変化させるプロセスで、集積回路（IC）などの半導体デバイスの製造に利用されている。 イオン注入装置市場は、日本の研究開発投資、特に材料科学と半導体技術に牽引されている。このような努力の結果、様々な産業でイオン注入の利用を促進するような進歩がもたらされる可能性がある。 当社の試算によると、日本の民間セクターは、基礎研究、技術革新、または新製品開発を目的としたプロジェクトへの再投資のために、年間90億米ドルから180億米ドルを投資する可能性がある。 詳しくはリンクをクリック：
