ハッカソン・アイデアソン成果の共有と
ビジネス化支援・人材情報の統合サイト


イオン注入とは、イオンと呼ばれる電荷を帯びた原子や分子を正確に導入することにより、半導体ウェハーの電気的特性を変化させるプロセスで、集積回路(IC)などの半導体デバイスの製造に利用されている。 イオン注入装置市場は、日本の研究開発投資、特に材料科学と半導体技術に牽引されている。このような努力の結果、様々な産業でイオン注入の利用を促進するような進歩がもたらされる可能性がある。 当社の試算によると、日本の民間セクターは、基礎研究、技術革新、または新製品開発を目的としたプロジェクトへの再投資のために、年間90億米ドルから180億米ドルを投資する可能性がある。 詳しくはリンクをクリック:
0

評価指数

0


世界のイオン注入機市場規模は2024年に2,299億米ドルと推定され、2037年末までに4,612億米ドルを超え、2025―2037年の予測期間中に5.5%のCAGRで成長すると予想されています。アジア太平洋地域は、2037 年までに 45.5% のシェアでイオン注入機業界をリードすると予想されています。高電流注入装置セグメントは、2037 年までに収益シェアの 35.5% を獲得すると予測されています。 詳細はリンクをクリックしてください:
0

評価指数

0